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產(chǎn)品分類產(chǎn)品中心/ products
產(chǎn)品型號(hào)：TMS-2000
更新時(shí)間：2026-04-11簡要描述：Santec 晶圓幾何參數(shù)測(cè)量系統(tǒng) 厚度測(cè)量儀 TMS-2000 TMS-2000以非接觸方式測(cè)量晶圓的的厚度分布，可以測(cè)量精度為1nm的平整度。 當(dāng)在涉及極的端的溫度變化和振動(dòng)的不穩(wěn)定環(huán)境中使用時(shí)，傳統(tǒng)的晶圓厚度映射技術(shù)難以解決精度問題，而TMS-2000具有高的環(huán)境穩(wěn)定性。由于其高速測(cè)量能力和緊湊的尺寸，TMS-2000可用于涉及在線檢測(cè)的各種工業(yè)領(lǐng)域。
| 品牌 | 其他品牌 | 測(cè)量原理 | 光學(xué)相干斷層掃描 (OCT) / 干涉探測(cè)技術(shù) |
|---|---|---|---|
| 厚度重復(fù)性 | 1nm (高精度測(cè)量) | 掃描方式 | 螺旋掃描 (高速、高密度) |
| 測(cè)量對(duì)象 | 硅(Si)、碳化硅(SiC)、鈮酸鋰(LiNbO3)、SOI、MEMS等 | 材料適應(yīng)性 | 具備偏振效應(yīng)補(bǔ)償 (針對(duì)雙折射/低反射材料) |
| 薄膜厚度測(cè)量范圍 | 最薄可測(cè) 4μm 的薄膜 | 翹曲測(cè)量形貌分析 | 可測(cè)量毫米級(jí)翹曲晶圓的平面內(nèi)形貌 |
| 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn) | 符合 SEMI 標(biāo)準(zhǔn) (GFLR, SFQR, ESFQR 等) |
Santec 晶圓幾何參數(shù)測(cè)量系統(tǒng) 厚度測(cè)量儀 TMS-2000
Santec 晶圓幾何參數(shù)測(cè)量系統(tǒng) 厚度測(cè)量儀 TMS-2000
在半導(dǎo)體制造中，晶圓的厚度與平整度（如GBIR, SBIR, ESFQR等參數(shù)）直接決定了芯片的良率。然而，傳統(tǒng)的晶圓厚度映射技術(shù)往往局限于實(shí)驗(yàn)室環(huán)境，一旦面對(duì)工廠現(xiàn)場的極的端的溫度波動(dòng)或機(jī)械振動(dòng)，測(cè)量精度便難以維持。Santec TMS-2000 晶圓測(cè)量系統(tǒng)正是為解決這一痛點(diǎn)而生，它不僅擁有0.1nm的超高分辨率，更憑借其獨(dú)特的“高耐環(huán)境性"設(shè)計(jì)，讓實(shí)驗(yàn)室級(jí)別的精度走進(jìn)了工業(yè)生產(chǎn)線。
一、 核心技術(shù)：非接觸干涉探測(cè)與 0.1nm 分辨率
TMS-2000 采用基于光學(xué)干涉原理的非接觸式探測(cè)技術(shù)。這種技術(shù)避免了物理接觸對(duì)晶圓表面造成的潛在損傷，同時(shí)確保了測(cè)量的極的高的靈敏度。
極的致的精度：系統(tǒng)具備 0.1nm 的厚度顯示分辨率，測(cè)量重復(fù)精度（1σ）典型值優(yōu)于 1nm（最大 ≤3nm）。這意味著它能敏銳捕捉到晶圓表面哪怕是亞納米級(jí)的微小起伏，為工藝調(diào)整提供最的可靠的數(shù)據(jù)支撐。
寬廣測(cè)量范圍：針對(duì)硅（Si）材料（折射率 n=3.5），其測(cè)量厚度范圍覆蓋 15μm 至 1400μm，完的美的適應(yīng)從超薄晶圓到常規(guī)厚度晶圓的多樣化檢測(cè)需求。
二、 獨(dú)特優(yōu)勢(shì)：高耐環(huán)境性（專的利的申請(qǐng)中）
文檔中特別強(qiáng)調(diào)，TMS-2000 具有高耐環(huán)境性（High Environmental Stability）。
與傳統(tǒng)設(shè)備不同，TMS-2000 通過獨(dú)特的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)（專的利的申請(qǐng)中），有效隔離了外界干擾。即使在涉及極的端的溫度變化和振動(dòng)的“不穩(wěn)定環(huán)境"下，它依然能保持核心光學(xué)元件的穩(wěn)定性，確保測(cè)量數(shù)據(jù)不受環(huán)境噪音影響。這一特性使其從單純的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，轉(zhuǎn)變?yōu)檫m用于在線檢測(cè)的工業(yè)級(jí)解決方案。三、 高效作業(yè)：螺旋掃描與 12 英寸全自動(dòng)適配
在追求精度的同時(shí)，TMS-2000 也兼顧了生產(chǎn)效率：
高速測(cè)量：采用獨(dú)特的螺旋掃描技術(shù)（直徑間距 2mm，周長間距 ≤0.5mm），結(jié)合可切換的線掃描模式，單片晶圓的測(cè)量時(shí)間僅需 0.5 至 2 分鐘，極大地提升了檢測(cè)吞吐量。
全自動(dòng)操作：設(shè)備配備 12 英寸晶圓工作臺(tái)，具備自動(dòng)缺口檢測(cè)與中心定位功能，配合獨(dú)特的數(shù)據(jù)采集軟件，可實(shí)現(xiàn)從加載到數(shù)據(jù)輸出的全流程自動(dòng)化。
四、 符合 SEMI 標(biāo)準(zhǔn)的深度數(shù)據(jù)分析
TMS-2000 的軟件系統(tǒng)不僅能進(jìn)行基礎(chǔ)的厚度測(cè)量，還能進(jìn)行符合 SEMI 標(biāo)準(zhǔn)的深度平整度分析，包括：
全局平整度 (GBIR, GFLD, GFLR)
局部平整度 (SBIR, SFQD, SFQR)
邊緣平整度 (ESFQR)
此外，系統(tǒng)支持指定 2 片晶圓的厚度差異分析，這一功能對(duì)于監(jiān)測(cè)化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）過程中的去除率（Removal Rate）具有極的高的實(shí)用價(jià)值。
結(jié)語
Santec TMS-2000 憑借其 0.1nm 分辨率與高環(huán)境穩(wěn)定性，重新定義了工業(yè)現(xiàn)場的晶圓測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)。它不僅是一臺(tái)測(cè)量儀器，更是連接精密實(shí)驗(yàn)室數(shù)據(jù)與大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)的橋梁。
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